Aluminum films deposited by rf sputtering

Author:

D’Heurle F. M.

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Mechanics of Materials,Condensed Matter Physics

Reference21 articles.

1. P. D. Davidse and L. I. Maisse:J. Appl. Phys., 1966, vol. 37, pp. 574–79.

2. J. L. Vossen and J. J. O’Neil:R. C. A. Rev., 1968, vol. 29, pp. 149–79.

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5. P. D. Davidse:Vacuum, 1967, vol. 17, pp. 139–45.

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