Thin-Film Formation by Laser-CVD
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Springer Berlin Heidelberg
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http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-3-642-17613-5_19
Reference33 articles.
1. Ahlgren W.L., E.J. Smith, J.B. James, T.W. James, R.P. Ruth, E.A. Patten: Photo-MOCVD growth of HgTe-CdTe superlattices, J. Cryst. Growth 86, 198 (1988)
2. Barth M., P. Hess, G. Mollekopf, H. Stafast: SF6 sensitized CO2-laser chemical vapor deposition of a-Ge:H, Thin Solid Films 241, 61 (1994)
3. Boyd I.W.: ULSI dielectrics: Low-temperature silicon dioxides, Mater. Chem. and Phys. 41, 266 (1995)
4. Chou W.B., M.N. Azer, J. Mazumder: Laser Chemical Vapor Deposition of Ti from TiBr4, J. Appl. Phys. 66, 191 (1989)
5. Deutsch T.F.: Applications of Excimer Lasers to Semiconductor Processing: in Laser Processing and Diagnostics, ed. by D. Bäuerle, Springer Ser. Chem. Phys., Vol. 39 (Springer, Berlin, Heidelberg 1984) p. 239
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