Materials Issues and Characterization of Low-k Dielectric Materials

Author:

Ryan E. T.,McKerrow A. J.,Leu J.,Ho P. S.

Publisher

Springer Berlin Heidelberg

Reference150 articles.

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2. D.C. Edelstein, G.A. Sai-Halasz, Y.-J. Mii: IBM J. Res. Develop., 39, 383 (1995)

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4. J.G. Ryan, R.M. Geffken, N.R. Poulin, J.R. Paraszczak:IBM J. Res. Develop., 39, 371 (1995)

5. M.T. Bohr: InAdvanced Metallization and Interconnect Systems for ULSI Applications in 1996ed. by R. Havemann, J. Schmitz, H. Komiyama, K. Tsubouchi (Materials Research Society, Boston, 1996) p. 3

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1. Positronium in Low Temperature Mesoporous Thin Films;Materials Science Forum;2004-01

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