Photolithography and Photoresist
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Springer Berlin Heidelberg
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http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-3-642-36199-9_112-1
Reference16 articles.
1. Goethals AM, Vandenberghe G, Pollentier M, Ercken P, Bisschop D, Maenhoudt M, Ronse K (2001) Recent progress in ArF lithography for the 100 nm node. J Photopolym Sci Technol 14:333–340. doi:10.2494/photopolymer.14.333
2. Ito H (2005) Chemical amplification resists for microlithography. Adv Polym Sci 172:37–245. doi:10.1007/b97574
3. Kinoshita H, Kurihara K, Ishii Y, Torii Y (1989) Soft x-ray reduction lithography using multilayer mirrors. J Vac Sci Technol B7:1648. doi:10.1116/1.584507
4. Nishikubo T, Kudo H (2011) Recent development in molecular resists for extreme ultraviolet lithography. J Photopolym Sci Technol 24:9–18. doi:10.2494/photopolymer.24.9
5. Willson CG, Ito H, Fréchet JMJ, Tessier TG, Houlihan FM (1986) Approaches to the design of radiation-sensitive polymeric imaging systems with improved sensitivity and resolution. J Electrochem Soc 133:181–187. doi:10.1149/1.2108519 R.L
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