Polycrystalline Silicon-Silicon Carbide Thin Films Produced by Plasma Enhanced CVD

Author:

Onuma Y.,Kamimura K.,Nagura Y.,Koike K.,Yonekubo S.

Publisher

Springer Berlin Heidelberg

Reference6 articles.

1. Y. Onuma, K. Kamimura, F. Nagaune, H. Seki, M. Kiuchi and H.Y. Cai: The Transactions of The Institute of E.E. of Japan, 110-A, 101 (1990)

2. Y. Onuma, K. Kamimura, F. Nagaune, H. Seki and K. Tezuka: The Transactions of The Institute of E.E. of Japan, 109-A, 219 (1989)

3. Y. Onuma, F. Nagaune and K. Kamimura: in Amorphous and Crystalline Silicon Carbide, ed. by G.L. Harris and C.Y. Yang; Springer Proceedings in Physics 34 (Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg 1989) p.142

4. Y. Onuma, H. Seki, K. Kamimura, T. Homma and C.H. Yi: Technical Digest of the 8th Sensor Symposium, Japan, 41 (1989)

5. Y. Onuma, S. Miyashita, Y. Nishibe, K. Kamimura and K. Tezuka: in Amorphous and Crystalline Silicon Carbide II, ed. by M.M. Rahman, C.Y. Yang and G.L. Harris; Springer Proceedings in Physics 43 (Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg 1989) p.212

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