1. E. M. Borroni, G. Huber-Trottmann, G. J. Kilpatrick, and R. D. Norcross, WO Pat. Appl. 0162233.
2. J. U. Smallheer and J. R. Corte, US Pat. Appl. 2005228000.
3. A. G. Taveras, C. J. Aki, R. W. Bond, J. Chao, M. Dwyer, J. A. Ferreira, J. Chao, Y. Yu, J. J. Baldwin, B. Kaiser, G. Li, J. R. Merritt, P. J. Biju, K. H. Nelson, L. L. Rokosz, J. P. Jakway, G. Lai, M. Wu, E. A. Hecker, D. Lundell, and J. S. Fine, US Pat. Appl. 2004147559.
4. I. Yoshida, N. Yoneda, Y. Ohashi, S. Suzuki, M. Miyamoto, F. Miyazaki, H. Seshimo, J. Kamata, Y. Takase, M. Shirato, D. Shimokubo, Y. Sakuma, and H. Yokohama, WO Pat. Appl. 02088107.
5. W. Schaper, H. Bastiaans, S. Harmsen, U. Doeller, J. Tiebes, D. Jans, W. Hempel, U. Sanft, and M.-T. Thoenessen, DE Pat. Appl. 19962901; Chem. Abstr., 135, 76877 t (2001).