1. A. Kuppanna, B. R. Kamana, S. Vanjivaka, and D. Datta, Indian Pat. Appl. 2010CH01278; Chem. Abstr., 158, 331563 (2012).
2. A. B. Nazarenko and V. E. Fedorov, RU Pat. Appl. 2442791; Chem. Abstr., 156, 285136 (2012).
3. C.-C. Lin, P.-C. Cheng, Y.-C. Liu, C.-F. Liu, and C.-H. R. King, US Pat. Appl. 2008108632; Chem. Abstr., 148, 538558 (2008).
4. A. S. Dutta, B. J. A. Furr, and M. B. Giles, DE Pat. Appl. 2720245; Chem. Abstr., 88, 136991 (1978).
5. M. Szelke, D. M. Evans, and D. M. Jones, WO Pat. Appl. 9204371; Chem. Abstr., 117, 151397 (1992).