1. J. S. D. Kurmar, M. M. Ho, J. M. Leung, and T. Toyokuni, Adv. Synth. Catal., 344, 1146 (2002).
2. Y. Hagiwara, M. Tanaka, A. Kajitani, and S. Yasumoto, Jpn. Pat. Appl. 3220180; Chem. Abstr., 116, 128944s (1992).
3. N. Minami, M. Sato, K. Hasumi, N. Yamamoto, K. Keino, T. Matsui, A. Kaneda, S. Ota, N. Saitou, S. Sato, A. Asau, S. Doi, M. Kobayashi, J. Sato, and S. Asano, Jpn. Pat. Appl. 2000086657; Chem. Abstr., 132, 251139r (2000).
4. O. Dannhardt, P. Dominiak, and S. Laufer, Arzneim. Forsch., 43, 441 (1993).
5. P. Skolnick, J. Clin. Psychiatry, 63, 19 (2002).