Plasma and surface modeling of the deposition of hydrogenated carbon films from low-pressure methane plasmas

Author:

M�ller W.

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

General Materials Science,General Chemistry,Physics and Astronomy (miscellaneous),General Engineering,General Materials Science

Reference90 articles.

1. J.C. Angus, P. Koidl, S. Domitz: In Plasma Deposited Thin Films, ed. by J. Mort, F. Jansen (CRC Press, Boca Raton 1986) p. 89

2. E-MRS Symp. Proc.,1987

3. J.J. Pouch, S.A. Alterovitz (eds.): Properties and Characterization of Amorphous Carbon Films, Mater. Sci. Forum 52, 53 (1990)

4. J. Robertson: Surf. Coat. Technol. 50, 185 (1992)

5. NATO ASI Series B;Y. Cathérine,1991

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