1. 1) 松下嘉明等:超精密ウエーハ表面制御技術,(株)サイエンスフォーラム(2000)292.
2. 2) 技術情報協会:エレクトロニクス洗浄技術(2007)4.
3. 3) 菊地正典:半導体のすべて,日本実業出版社(2003)140.
4. 4) 佐藤運海,竹ノ内敏一,若林信一,佐藤元太郎:電解水を用いたシリコンウエハーの超精密洗浄,精密工学会誌論文集,71,6(2005)756.
5. 5) 佐藤運海,市川浩一郎:希薄NaCl 電解還元水を用いたシリコンウエハの精密研磨,精密工学会誌論文集,72,10(2006)1247.