Nanoscale MoS2 Transistors on Polyimide for Radio-Frequency Operation
Author:
Affiliation:
1. RWTH Aachen Univ.,Chair of Electronic Devices,Germany
2. RWTH Aachen Univ.,Chair of High Frequency Electronics,Germany
3. Stanford Univ.,Electrical Eng.,USA
4. Freiburg Univ.,Dept. of Microsystems Eng.,Germany
5. In-CirT GmbH,Germany
Funder
Stanford SystemX Alliance
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/10605129/10605242/10605276.pdf?arnumber=10605276
Reference9 articles.
1. 2D materials for future heterogeneous electronics
2. Effect of Top-Gate Dielectric Deposition on the Performance of Indium Tin Oxide Transistors
3. Strain-Enhanced Mobility of Monolayer MoS2
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