基于过焦扫描光学显微术的套刻误差检测方法研究

Author:

Liu Hao 刘浩,Wang Jinsong 王劲松,Shi Junkai 石俊凯,Li Guannan 李冠楠,Chen Xiaomei 陈晓梅,Zhou Weihu 周维虎

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference29 articles.

1. 创新链赶超: 中国集成电路产业的创新与发展;曲永义;经济管理,2022

2. Innovation chain catches up: innovation and development of Chinas IC industry;X J Li;Business Management Journal,2022

3. International Roadmap for Devices and Systems (IRDSTM),0

4. Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources: a review;Y Y Chen;High Power Laser Science and Engineering,2023

5. Optical wafer metrology sensors for process-robust CD and overlay control in semiconductor device manufacturing;A J den Boef;Surface Topography: Metrology and Properties,2016

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