Author:
Оскирко В.О.,Захаров А.Н.,Работкин С.В.,Павлов А.П.,Семенов В.А.,Соловьев А.А.
Abstract
Представлены результаты магнетронного распыления меди короткими (до 1–2 мкс) импульсами высокой мощности. Для получения коротких импульсов использовался специальный источник питания, обладающий высоким выходным напряжением (до 1500 В) и низким внутренним сопротивлением. Результаты экспериментов показали, что уменьшение длительности импульсов разрядного тока ведет к увеличению средней плотности ионного тока, протекающего на подложку. Максимальная плотность ионного тока наблюдается при длительности импульсов разрядного тока 2–6 мкс. Показано, что благодаря увеличению плотности ионного тока существенно возрастает отношение количества ионов к количеству атомов в потоке частиц, воздействующих на подложку.