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High-Performance X-Ray Mask Fabrication Using TaGeN Absorber and Dummy Pattern Method for Sub-100 nm Proximity X-Ray Lithography

  • Published:2001-04-15 Issue:Part 2, No. 4B Volume:40 Page:L410-L413
  • ISSN:0021-4922
  • Container-title:Japanese Journal of Applied Physics
  • language:
  • Short-container-title:Jpn. J. Appl. Phys.

Author:

Iba Yoshihisa,Taguchi Takao,Iizuka Takashi,Kumasaka Fumiaki,Aoyama Hajime,Nakayama Yoshinori,Horiuchi Kei,Matsui Yasuji

Publisher

IOP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy,Physics and Astronomy (miscellaneous),General Engineering

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. 50 nm Pattern Printing by Narrowband Proximity X-Ray Lithography;Japanese Journal of Applied Physics;2002-12-15
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