Photoresist Materials and Processing

Author:

Garza Cesar,Conley Will,Byers Jeff

Publisher

CRC Press

Reference148 articles.

1. Limits to etch resistance for 193-nm single-layer resists

2. Garza, C. M., and W. L. Krisa. "Tools to Extend the Resolution of Optical Lithography." In10th International Conference on Photopolymers. Ellenville, NY: Society of Plastic Engineers, Oct. 1994, Mid-Hudson Section, Nov. 1994.

3. Introduction to Microlithography

4. Introduction to Microlithography

5. Photosolubility of diazoquinone resists

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