Balancing mask manufacturability and image quality with inverse lithography: a study on variable fracture sizes
Author:
Publisher
SPIE
Reference6 articles.
1. Manufacturing challenges for curvilinear masks;Spence,2017
2. Hotspot fixing using ilt;Sim,2011
3. Enabling faster vsb writing of 193i curvilinear ilt masks that improve wafer process windows for advanced memory applications;Pang,2020
4. Lithographic benefits and mask manufacturability study of curvilinear masks;Guo,2018
5. Advanced ilt solutions to manufacture photonics designs;Zeggaoui,2021
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