A new era DFM solution for yield enhancement using machine learning (ML)

Author:

Kim Namjae,Kang Jae-Hyun,Jung SangWoo,Jang DaeHyun,Kim ByungMoo,Jeon JoongWon,Ku Ja-Hum,Madkour Kareem,Kwan Joe

Publisher

SPIE

Reference15 articles.

1. Design for Manufacturing With Emerging Nanolithography;Pan;In IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems,2013

2. Microlithography

3. Layout Impact of Resolution Enhancement Techniques: Impediment or Opportunity;Liebmann,2003

4. Three DfM Challenges: Random Defects, Thickness Variation, and Printability Variation;Charles,2006

5. Yield enhancement with DFM

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