Explanation of LER using the concept of gel layer in chemically amplified photoresists
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Publisher
SPIE
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1. Evaluating nanoscale molecular homogeneity in extreme ultraviolet resists with nanoprojectile secondary ion mass spectrometry;Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology;2022-11-07
2. Evaluating nanoscale molecular homogeneity in EUV resists with nano-projectile SIMS;Advances in Patterning Materials and Processes XXXIX;2022-05-25
3. New Photoresist Based on Amorphous Low Molecular Weight Polyphenols;Journal of Photopolymer Science and Technology;2004
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