Operando x-ray photoelectron emission microscopy for studying forward and reverse biased silicon p-n junctions

Author:

Barrett N.1,Gottlob D. M.1,Mathieu C.1,Lubin C.1,Passicousset J.12ORCID,Renault O.3,Martinez E.3

Affiliation:

1. SPEC, CEA, CNRS, Université Paris-Saclay, CEA Saclay, 91191 Gif-sur-Yvette Cedex, France

2. IFP Energies nouvelles, Rond-point de l’échangeur de Solaize, BP 3, 69360 Solaize, France

3. University Grenoble-Alpes, 38000 Grenoble, France and CEA, LETI, MINATEC Campus, 38054 Grenoble, France

Funder

Agence Nationale de la Recherche (ANR)

Publisher

AIP Publishing

Subject

Instrumentation

同舟云学术

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2.学术分析学术分析

3.人才评估人才评估

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