Normal and off-normal incidence dissociative dynamics of O2(v,J) on ultrathin Cu films grown on Ru(0001)

Author:

Fallaque J. G.12345ORCID,Ramos M.6789ORCID,Busnengo H. F.6789ORCID,Martín F.12345ORCID,Díaz C.101112135ORCID

Affiliation:

1. Departamento de Química

2. Módulo 13

3. Universidad Autónoma de Madrid

4. 28049 Madrid

5. Spain

6. Instituto de Física Rosario

7. CONICET and Universidad Nacional de Rosario

8. 2000 Rosario

9. Argentina

10. Departamento de Química Física

11. Facultad de CC. Químicas

12. Universidad Complutense de Madrid

13. 28040 Madrid

Abstract

Ligand and strain effects, rather than the surface state population, are responsible for O2 sticking on CuML/Ru(0001) at thermal energies.

Funder

Fondo para la Investigación Científica y Tecnológica

Ministerio de Ciencia e Innovación

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

Physical and Theoretical Chemistry,General Physics and Astronomy

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