Ultralong and Defect-Free GaN Nanowires Grown by the HVPE Process

Author:

Avit Geoffrey12,Lekhal Kaddour12,André Yamina12,Bougerol Catherine3,Réveret François12,Leymarie Joël12,Gil Evelyne12,Monier Guillaume12,Castelluci Dominique12,Trassoudaine Agnès124

Affiliation:

1. Clermont Université, Université Blaise Pascal, Institut Pascal, BP 10448, F-63000 Clermont-Ferrand, France

2. CNRS, UMR6602, Institut Pascal, F-63171 Aubière, France

3. CEA-CNRS-UJF group, Nanophysique et Semiconducteurs, Institut Néel CNRS, 25 avenue des Martyrs, 38042 Grenoble cedex 9, France

4. Clermont Université, Université d’Auvergne, BP10448, F-63000 Clermont-Ferrand, France

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Mechanical Engineering,Condensed Matter Physics,General Materials Science,General Chemistry,Bioengineering

同舟云学术

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