Nanostructures Development with Atomic Layer Deposition
Author:
Affiliation:
1. University of Electronic Science and Technology of China; State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices; No. 4, Section 2, North Jianshe Road Chengdu 610054 P. R. China
Publisher
Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA
Reference81 articles.
1. Atomic Layer Deposition: An Overview
2. Surface Chemistry for Atomic Layer Growth
3. Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process
4. Thin film atomic layer deposition equipment for semiconductor processing
Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Low cycles pulsed chemical vapor deposition of polycrystalline anatase TiO2;Nano Express;2020-08-25
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