Chemische Reaktionen in Gasentladungen. II. �ber die Bildung von Halogenosiloxanen bei der Reaktion von SiX4 (X = Cl, Br) mit Sauerstoff-Reference-Cited by-同舟云学术

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Chemische Reaktionen in Gasentladungen. II. �ber die Bildung von Halogenosiloxanen bei der Reaktion von SiX4 (X = Cl, Br) mit Sauerstoff

Published:1990-08 Issue:1 Volume:587 Page:157-166
ISSN:0044-2313
Container-title:Zeitschrift f�r anorganische und allgemeine Chemie
language:de
Short-container-title:Z. Anorg. Allg. Chem.

Author:

Kornick A.,Binnewies M.

Publisher

Wiley

Subject

Inorganic Chemistry

Reference21 articles.

1. : Privatmitteilung (1988).

2. Chemische Reaktionen in Gasentladungen. I. Oxidhalogenide des Bors

3. Darstellung und Reactionen eines Siliciumoxychlorürs

Cited by 14 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Identification and Characterization of Monomeric, Volatile SiCl3NH2 as Product of the Reaction between SiCl4 and NH3: An Important Intermediate on the Way to Silicon Nitride?;Chemistry - A European Journal;2003-03-17

2. Reaction Mechanism of Chlorosiloxane Ring Formation from SiCl4 and O2;The Journal of Physical Chemistry A;2002-06-26

3. BAC-MP4 Predictions of Thermochemistry for Gas-Phase Compounds in the Si−H−O−Cl System;The Journal of Physical Chemistry A;2002-06-11

4. Silicon Compounds, Inorganic;Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry;2000-06-15

5. The Detection of O=SiCl2 as an Intermediate During the Combustion Process of SiCl4 with O2;European Journal of Inorganic Chemistry;1999-09

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