P‐1.4: Analysis of the Hump Characteristics in Poly‐Si Thin Film Transistor & Process a method to suppress hump effect
Author:
Affiliation:
1. Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Wuhan Hubei China
Publisher
Wiley
Subject
General Medicine
Link
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/sdtp.16030
Reference8 articles.
1. Ultra-thin elevated channel poly-Si TFT technology for fully-integrated AMLCD system on glass[J];Zhang S;IEEE Transactions on Electron Devices,2000
2. 8.1: Invited paper: Value of LTPS: Present and future[C];Ohshima H;SID Symposium Digest of Technical Papers,2014
3. Analysis of the Hump Characteristics in Poly-Si Thin Film Transistor[C];Soopool K I M;ECS Meeting Abstracts,2006
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