Effect of Annealing Ferroelectric HfO 2 Thin Films: In Situ, High Temperature X‐Ray Diffraction

Author:

Park Min Hyuk1ORCID,Chung Ching‐Chang2,Schenk Tony1,Richter Claudia1,Opsomer Karl3,Detavernier Christophe4,Adelmann Christoph3,Jones Jacob L.2,Mikolajick Thomas15,Schroeder Uwe1

Affiliation:

1. NaMLab gGmbH Noethnitzer Str. 64 ,01187 Dresden Germany

2. Department of Materials Science and Engineering North Carolina State University Raleigh NC 27695‐7907 USA

3. IMEC B‐3001 Leuven Belgium

4. Cocoon Solid State Sciences Universiteit Gent B‐9000 Gent Belgium

5. Chair of Nanoelectronic Materials TU Dresden 01062 Dresden Germany

Funder

Army Research Office

Deutsche Forschungsgemeinschaft

North Carolina State University

National Science Foundation

Publisher

Wiley

Subject

Electronic, Optical and Magnetic Materials

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