Über die Widerstandspolarisation II: Ihre zeitliche Veränderung und die daraus folgenden Aussagen über die Polarisationserscheinungen an Systemen Metall/Deckschicht/Lösung

Abstract

AbstractIm Rahmen der allgemeinen Aufgabe einer Analyse von Gesamtpolarisationsbeträgen durch Angabe entsprechender Grundpolarisationsanteile kann die Widerstandspolarisation ΔgΩ auf Grund ihres in größenordnungsmäßig 10−5 sek erfolgenden Einstellens leicht abgetrennt werden. Der Vorteil. der Aufnahme der Gesamtpolarisations‐Zeitkurven und der gleichzeitigen zeitlichen Veränderung des Widerstandspolarisationsanteiles bei intermittierender Gleichstrombelastung der Elektroden in Form von Stromstößen und Strom‐pausen von je etwa 3 sek wird erörtert. Die hierzu, entsprechend der Arbeit I1), benutzten Kathodenstrahl‐aufnahmen werden auch zur Bestimmung der Anfangspolarisationskapazität Ct = 0 der übrigen Grundpolarisationsanteile ausgewertet. Für Metall/Lösungssysteme mit anodischer Deckschichtbildung werden einige Modellvorstellungen zurDeutung der zeitlichen Veränderung der ΔgΩ‐ und Ct = 0‐Werte und der Gesamtpolarisation entworfen. Das Meßverfahren wird auf die Systeme Blei oder Silber'Halogenwasserstoffsäure und Blei/Schwefelsäure angewendet. Der Widerstandspolarisationsanteil beträgt in keinem Falle mehr als etwa 40% der Gesamtpolarisation. An den Halogenwasserstoffsäuresystemen läßt sich die zeitliche Veränderung der Meßgrößen auf eine poröse Struktur der Halogeniddeckschichten zurückführen. Hier dürften im übrigen Aktivierungs‐ und Konzentrationspolarisation vorliegen, wobei letztere bei höheren Stromdichten undefiniert wird. Am System Blei/Schwefelsäure ist deutlich eine allmähliche stoffliche Umwandlung der Deckschicht im Sinne von Wechselpolarisation erkennbar.