Computer Modeling of MOSFETs

Author:

YU S.P.,TANTRAPORN W.

Publisher

Elsevier

Reference53 articles.

1. SUPREM II—A Program of IC Process Model and Simulation;Antoniadis,1978

2. A general simulation for VLSI lithography and etching process: Part I—Application to projection litholography;Oldham;IEEE Trans. Electron Devices,1979

3. A general simulator for VLSI lithography and etching process: Part II—Application to deposition and etching;Oldham;IEEE Trans. Electron Devices,1980

4. Process modeling and design procedure for IGFET thresholds;Geipel;IEEE J. Solid-State Circuits,1979

5. Two-dimensional numerical simulation of impurity redistribution in VLSI process;Tielert;IEEE Trans. Electron Devices,1980

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