Effect of pretreatment on Al2O3 substrate by depositing Al2O3 film on the properties of Ni–Cr–Si based thin film resistor

Author:

Chung K.C.,Lee Wen-Hsi

Publisher

Elsevier BV

Subject

Condensed Matter Physics,General Materials Science

Reference14 articles.

1. Principles of Electronic Materials and Devices;Kasap,2006

2. Degradation of CrSi(W)O resistive films;brückner;Thin Solid Films,1992

3. Structural and electrical properties of CrSi2 thin film resistors;Hieber;Thin Solid Films,1976

4. Materials for Thin Film Resistors;Moffatt Kennedy,1999

5. Metal film precision resistors: resistive metal films and a new resistor concept;Van Den Broek;Philips J. Res.,1998

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