Ion-irradiation-enhanced dissolution of epitaxial fluoride films: A new class of inorganic single-crystal ion resist

Author:

Asano Tanemasa,Ishiwara Hiroshi,Furukawa Seijiro

Publisher

Elsevier BV

Subject

Instrumentation,Nuclear and High Energy Physics

Cited by 4 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Environment of Er in epitaxial Ca1−xErxF2+x thin films using local techniques;Journal of Applied Physics;1998-10

2. Characterization of Ca1−xErxF2+xsolid solution thin films grown on Si(100) substrates;Journal of Applied Physics;1993-02

3. Formation of Ca Silicides in Insulating CaF2 Layers by Ion Implantation;Physica Status Solidi (a);1991-03-16

4. Helium ion induced erosion of calcium fluoride thin films;Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms;1990-10

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