Maskless etching of ion modified chromium films
Author:
Publisher
Elsevier BV
Subject
Surfaces, Coatings and Films,Condensed Matter Physics,Instrumentation
Reference16 articles.
1. Mikrostrukturierung von fotoschablonen mittels nichtreaktiver hochfrequenzionenätzung
2. Proc 2nd Int Conf Plasma Chemistry and Technology;Spangenberg,1984
3. Reactive ion etching of thin chromium films using a two-layer resist system of polyimide and evaporated silver halide
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Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
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2. Direct write patterning of titanium films using focused ion beam implantation and plasma etching;Microelectronic Engineering;1997-02
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