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Combined thermodynamic and mass transport modeling for material processing from the vapor phase

  • Published:2000-04 Issue:2 Volume:365 Page:264-274
  • ISSN:0040-6090
  • Container-title:Thin Solid Films
  • language:en
  • Short-container-title:Thin Solid Films

Author:

Pons Michel,Bernard Claude,Blanquet Elisabeth,Madar Roland

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference40 articles.

1. Microelectronics Processing: Chemical Engineering Aspects;Jensen,1989

2. Chemical Vapor Deposition of Refractory Metals and Ceramics II, MRS Symp. Vol. 250;Gokoglu,1992

3. Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films;Kleijn,1993

4. Computational Modeling in Semiconductor Processing;Kleijn,1995

5. Chemical Vapor Deposition, Proc. 14th Int. Conf., Vol. 97-25;Couderc,1997

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