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Preparation and properties of nano-silica modified negative acrylate photoresist

  • Published:2008-10 Issue:23 Volume:516 Page:8399-8407
  • ISSN:0040-6090
  • Container-title:Thin Solid Films
  • language:en
  • Short-container-title:Thin Solid Films

Author:

Lee Chih-Kang,Don Trong-Ming,Lai Wei-Chi,Chen Chin-Chung,Lin Dar-Jong,Cheng Liao-Ping

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference27 articles.

1. K. Ueda, S. Shioda, H. Nishijima, T. Mukaiyama, S. Mitsuhashi, U.S. Patent No. 6,558,858, 6 May 2003.

2. M. Sato, M. Iwasaki, F. Shinozaki, K. Inoue, U.S. Patent No. 5,397,678, 14 Mar. 1995.

3. K. Ueda, S. Shioda, H. Nishijima, T. Mukaiyama, S. Mitsuhashi, U.S. Patent No. 6,432,614, 13 Aug. 2002.

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