Initial growth kinetics of positive and negative hydrogenated Si cluster ions under the presence of silane radicals
Author:
Publisher
IOP Publishing
Subject
General Physics and Astronomy,Physics and Astronomy (miscellaneous),General Engineering
Link
http://stacks.iop.org/1347-4065/58/i=4/a=046002/pdf
Reference50 articles.
1. Formation and behaviour of nano/micro-particles in low pressure plasmas
2. Nonthermal plasma synthesis of semiconductor nanocrystals
3. Importance of chain reactions in the plasma deposition of hydrogenated amorphous silicon
4. Ion–molecule reactions in a direct current silane glow discharge
5. Ion chemistry in silane dc discharges
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