Production and Applications of Metal-cluster-complex Ion Beams

Author:

FUJIWARA Yukio,KONDOU Kouji,TERANISHI Yoshikazu,WATANABE Kouji,NONAKA Hidehiko,SAITO Naoaki,ITOH Hiroshi,FUJIMOTO Toshiyuki,KUROKAWA Akira,ICHIMURA Shingo,TOMITA Mitsuhiro

Publisher

The Vacuum Society of Japan

Subject

Spectroscopy,Surfaces and Interfaces,Instrumentation,General Materials Science

Reference45 articles.

1. 1) 例えば,日本表面化学会編“二次イオン質量分析法”,丸善株式会社,(1999) [in Japanese].

2. Evaluation of the sputtering rate variation in SIMS ultra-shallow depth profiling using multiple short-period delta layers

3. Computer simulation of knock-on effect under ion bombardment

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