Process Integration

Author:

Reisch Michael

Publisher

Springer Berlin Heidelberg

Reference88 articles.

1. S.M. Sze (Ed.). VLSI Technology. McGraw-Hill, New York, 1985.

2. K. Ueno, H. Goto, E. Sugiyama, H. Tsunoi. A sub-40 ps ECL circuit at a switching current of 1.28 m A. IEDM Tech. Dig., pp. 371–374, 1987.

3. C.T. Chuang, P.F. Lu. On the scaling property of trench isolation capacitance for advanced high-performance ECL circuits. IEDM Tech. Dig., pp. 799-802, 1989.

4. P.F. Lu, C.T. Chuang. On the scaling of trench isolation capacitance for advanced high-performance ECL circuits. IEEE Trans. Electron Devices, 37(10):2270–2274, 1990.

5. T.F. Meister, H. Schäf er, M. Franosch, W. Molzer, K. Aufinger, U. Scheler, C. Walz, M. Stolz, S. Boguth, J. Böck. SiGe base bipolar technology with 74 GHz f max and 11 ps gate delay. IEDM Tech. Dig., pp. 739–742, 1995.

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