Deposition for Microelectronics—Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition-Reference-Cited by-同舟云学术

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Deposition for Microelectronics—Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

Published:1988 Issue: Volume: Page:1-26
ISSN:
Container-title:Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
language:
Short-container-title:

Author:

Reif Rafael

Publisher

Springer Netherlands

Link

http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-94-011-7056-7_1.pdf

Reference88 articles.

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